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激光直寫(xiě)無(wú)掩膜光刻機(jī)紫外光直寫(xiě)曝光 ，無(wú)需掩模，大幅節(jié)約了掩模加工費(fèi)用，靈活性高，可直接通過(guò)電腦設(shè)計(jì)光刻圖形，并可根據(jù)設(shè)計(jì)要求隨意調(diào)整，可升級(jí)開(kāi)放性系統(tǒng)設(shè)計(jì)，按照客戶要求自由配置，使用維護(hù)簡(jiǎn)單, 設(shè)備耗材價(jià)格低，應(yīng)用范圍廣，目前廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、生物芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、傳感器、微化學(xué)、光學(xué)等領(lǐng)域。

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勻膠機(jī)，旋涂?jī)x其工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片, 利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上, 厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同, 也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。

無(wú)掩膜光刻機(jī), 激光直寫(xiě)系統(tǒng)是一個(gè)高價(jià)值的直寫(xiě)激光光刻機(jī)系統(tǒng)，面向大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)尋求擴(kuò)大他們的能力。 它用亞微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蝕劑涂層表面大面積書(shū)寫(xiě)。你可以寫(xiě)任何東西，從光掩模到基礎(chǔ)科學(xué)或應(yīng)用科學(xué)的研究原型，集成相機(jī)可以用來(lái)調(diào)整現(xiàn)有的功能寫(xiě)。

負(fù)性光刻膠 （SU-8）-光刻機(jī)用 SNR負(fù)性光刻膠，針對(duì)微機(jī)械加工微電子應(yīng)用，高對(duì)比度，環(huán)氧樹(shù)脂類負(fù)性光刻膠。 具有垂直側(cè)壁的高縱橫比成像 近紫外（350-400nm）處理 單旋涂膜厚度為1.5至200µm 高度耐化學(xué)性和耐溫度性 與已建立的SU-8光刻工藝兼容

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